聚焦离子束系统采用聚焦的离子束对样品表面进行轰击，并由计算机控制离子束的扫描或加工轨迹、步距、驻留时间和循环次数，以实现对材料的成像、刻蚀、诱导沉积和注入的分析系统。其应用已经从界面检测扩展到纳米图像制备、透射样品制备、三维成像和分析、电路编辑和修复等，在材料科学、生物、半导体集成电路、数据存储磁盘等领域有广泛的应用。

但由于聚焦离子束系统在长期使用过程中离子束流强度、能量等的变化，导致其测量出现较大误差，对于使用过程中量值准确性的保证、项目验收等都存在极大的困难。所以迫切需要建立聚焦离子束系统的量传体系，为纳米技术领域的精准测量提供技术保障。

FIB计量规范的主要技术关键：

1、标准器的选择：根据不同的计量特性，合理地选择校准用标准器，并直接溯源到国家基准。

2、长度测量误差：为了对放大范围内长度测量误差进行全面的校准，需要根据不同的放大倍率选择间距合适的标准器，确保在测量时，图像中可完整显示5个以上周期，以降低瞄准不确定性的影响。通过重心法确定评定长度，重复测量10次，以减少测量不确定度。

3、长度测量重复性：根据长度测量误差校准项目的测量条件，重复测量10次，取实验标准差作为长度测量重复性的校准结果。

4、线性失真度：标准器选择二维标准栅格。在一定放大倍数下，测量二维栅格样板，选取一个栅格，分别平移到图像的中心和四角，各获取一幅图像，分别计算X、Y方向的线性失真度。

5、正交误差：标准器选择二维标准栅格。为减小正交误差，必须选取正交方向5个间隔以上的周期进行测量，并且重复测量3次，取均值作为示值。

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