电子级异丙醇是一种极高纯度的异丙醇（Isopropyl Alcohol, IPA），专为电子和其他高科技产业中对清洁度和纯度有严格要求的应用而设计。它经过特殊的精炼和过滤工艺，以去除水分、杂质、颗粒物以及金属离子，确保其具备超低的杂质含量和卓越的清洁能力。电子级异丙醇通常拥有远高于普通工业级异丙醇的纯度，其纯度标准通常达到99.9%以上，甚至达到分析纯级别，且对水分含量、颗粒污染以及其他杂质都有严格的限制。它是半导体、微电子、光电和精密机械等领域不可或缺的清洁剂和溶剂，对维持高端制造工艺的高质量标准至关重要。
它的特点包括：
- 高纯度：电子级异丙醇的纯度非常高，通常需要达到99.9%以上，且严格控制金属离子、颗粒物、有机杂质等含量，以避免对精密电子组件造成污染。
- 低水含量：为了防止水分对电子元件的不良影响，电子级异丙醇中的水含量被严格控制在极低水平。
- 良好的溶解性和挥发性：这使得它成为清洁电路板、去除指纹、油脂和其它有机残留的理想选择，同时容易干燥，不留痕迹。
- 无腐蚀性：对大多数塑料、金属无腐蚀性，安全用于敏感材料的清洁。电子级异丙醇的应用范围广泛，主要集中在高科技和精密制造业中，具体包括但不限于以下几个领域：
- 半导体制造业：用于晶圆清洗、光刻胶显影后残余物的去除，以及芯片制造过程中的各种清洁步骤，确保高洁净度环境。
- 电子组装：在印刷电路板（PCB）制造中，用于清洁焊膏残留、油脂和灰尘，提高电路板的焊接质量和可靠性。
- 光学器件：用于镜头、棱镜、滤光片等光学元件的清洁，保持光学性能，减少污渍和静电。
- 液晶显示（LCD）和有机发光二极管（OLED）制造：在面板生产和组装过程中清洁屏幕，防止像素污染，保证显示质量。
- 医疗设备：作为消毒和清洁剂，用于医疗器械的表面处理，因其能快速挥发且不易留下残留物。
- 实验室化学试剂：作为高纯度溶剂，用于实验室中化学合成、样品准备及仪器清洗，确保实验结果的准确性。
- 航空航天：在航空航天器的电子系统制造中，用于关键部件的精密清洁，确保系统的高可靠性和长寿命。
- 光伏产业：在太阳能电池板的生产过程中，用于清洗硅片和其他组件，以提升光电转换效率。
电子级异丙醇凭借其高纯度、低水含量、优异的溶解性和挥发性，成为众多高科技行业中不可或缺的清洁和处理溶剂。
电子级异丙醇的提纯流程主要包括以下几个关键步骤：
- 原料预处理：首先对基础异丙醇原料进行初步纯化，去除大颗粒杂质和初步降低水含量。这通常涉及过滤、蒸馏等物理方法。
- 多级精馏：通过多级精馏塔系统进行深度提纯，每级精馏进一步分离异丙醇与其他挥发性杂质，以及严格控制水含量。这一过程可能包括真空精馏以提高纯度和效率。
- 吸附净化：使用特定的吸附剂（如分子筛、活性炭）去除痕量的杂质和气味，确保产品的高纯净度。
- 离子交换：通过离子交换柱去除水溶液中的离子杂质，确保电子级异丙醇中的金属离子含量极低。
- 过滤除菌：采用精密过滤器，如0.2μm或更小孔径的过滤膜，去除微生物和微细颗粒物，保证无菌状态。
- 脱水处理：采取如共沸蒸馏、膜分离技术等手段，将水含量降至极低水平，满足电子级应用的要求。
- 包装与储存：在高度净化的环境下进行无菌灌装，使用专用容器密封保存，防止再次污染。
- 质量检测：每批产品都要经过严格的质量控制测试，包括但不限于气相色谱分析、电导率测试、颗粒度检测等，确保所有指标均符合电子级标准。
我们主要介绍用到的离子交换树脂，Tulsimer ® MB-106UP，是由核子级强酸型阳离子Tulsimer ® T-46Li 及核子级强碱型阴离子 Tulsimer ® A-33OH 以1:2 体积比的剂量比例 , 预先混合的混床级离子交换树脂,专门提供给超纯水系统抛光用，具有的交换容量及优越的物理特性。适合用于电子产业 ，生产半导体及映像管产业，实验室，激光，精仪器，医用行业等需要超纯水的行业，以及核电厂等使用。
二、重要参数
| Tulsimer ®T-46 (阳) | Tulsimer ®A-33 (阴) | |
| 型式(Type) | 强酸性阳离子交换树脂 (Strong acid Cation exchange resin) | 强碱性阴离子交换树脂 (Strong base Anion exchange resin) |
| 主体结构(Matrix Structure) | 苯乙烯(Cross linked polystyrene) | 苯乙烯(Cross linked polystyrene) |
| 功能基 (Functional Group) | 硫酸基(Sulfonic acid) | 4级胺(Quaternary ammonium Type I) |
| 物理性貭(Physical Form) | 球状颗粒(Moist spherical beads) | 球状颗粒(Moist spherical beads) |
| 离子型式(Ionic form supplied) | 氢(Hydrogen) | 氢氧(Hydroxide) |
| 粒径范围(U.S.mesh in wet) | 16 to 50 | 16 to 50 |
| 粒度范围 (Particle Size) | 0.3 to 1.2 mm | 0.3 to 1.2 mm |
| 微粒含量(Fines Content) | 穿过US 50 Mesh小于0.5% (Less than 0.5% passing through 50 U.S.mesh) | 穿过US 50 Mesh小于0.5% (Less than 0.5% passing through 50 U.S.mesh) |
| 总交换容量 (Total Exch. Capacity) | 1.8 meq/ml minimum of 99% in hydrogen form | 1.0 meq/ml minimum of 90% in hydroxide form and less than 1% in chloride form |
| PH范围 (pH Range) | 0 to 14 | 0 to 14 |
| 允许温度 (Temp. Stability) | 120°C | 60°C |
| 微粒含量(Fines Content) | 穿过US 50 Mesh小于0.5% (Less than 0.5% passing through 50 U.S.mesh) | 穿过US 50 Mesh小于0.5% (Less than 0.5% passing through 50 U.S.mesh) |
| 总交换容量 (Total Exch. Capacity) | 1.8 meq/ml minimum of 99% in hydrogen form | 1.0 meq/ml minimum of 90% in hydroxide form and less than 1% in chloride form |
| PH范围 (pH Range) | 0 to 14 | 0 to 14 |
| 允许温度 (Temp. Stability) | 120°C | 60°C |
| 溶解率 (Solubility) | Insoluble in all common solvents | Insoluble in all common solvents |
| 溶出有机物(Organic leachable) | Less than 0.2 mg KMNO4 per ml of wet resin | Less than 0.2 mg KMNO4 per ml of wet resin |
| 密度Backwash settled density | Approx.750 gm/liter | Approx.750 gm/liter |
| 不纯物(Impurities) | Fe=50 ppm(max) | Fe=50 ppm(max) |
| Cu=50 ppm(max) | Cu=50 ppm(max) | |
| Pb=50 ppm(max) | Pb=50 ppm(max) | |
| 球粒强度(Bead strength) | Avg. not less than 300g/bead by Chatillon test (ASTM Standard) | |
三、产品优势
1、具有交换容量及优越的物理特性
2、在全球我们有数十家核电厂使用我们的抛光树脂
3、MB-106UP为高阶核子级抛光树脂。
四、使用场景
适合用于电子产业 ，生产半导体及映像管产业
实验室，激光，精仪器，医用行业等需要超纯水的行业
核电厂等使用
专门提供给超纯水系统抛光用
