材料物理 笔记-8

news2024/11/24 4:22:45

原内容请参考哈尔滨工业大学何飞教授:https://www.bilibili.com/video/BV18b4y1Y7wd/?p=12&spm_id_from=pageDriver&vd_source=61654d4a6e8d7941436149dd99026962
或《材料物理性能及其在材料研究中的应用》(哈尔滨工业大学出版社)
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交变电场下的平板电容器

当电介质受到交变电场作用时,随着电场交变频率的增加,极化强度将落后于交变电场的变化,并总有部分电能转化为热能,从而使介质发热。

理想情况

image.png
在平板电容器两端施加角频率一定的交流电压,此时在电极上会出现周期性变化的电荷量。

  • 平板真空电容器的电容: C 0 = ϵ 0 S d C_0=\epsilon_0\frac{S}{d} C0=ϵ0dS
  • 角频率为 ω = 2 π f \omega=2\pi f ω=2πf交流电压: U = U 0 e i ω t U=U_0e^{i\omega t} U=U0et
  • 根据 Q = C 0 U Q=C_0U Q=C0U,回路电流 I c I_c Ic为:
    I c = d Q d t = d C 0 U 0 e i ω t d t = i ω C 0 U 0 e i ω t = i ω C 0 U I_c=\frac{\mathrm{d}Q}{\mathrm{d}t}=\frac{\mathrm{d}C_0U_0e^{i\omega t}}{\mathrm{d}t}= i\omega C_0U_0e^{i\omega t}=i\omega C_0U Ic=dtdQ=dtdC0U0et=C0U0et=C0U

I c I_c Ic在此处也称为电容电流(位移电流),是给电容器充电的电流。不产生热效应或化学效应,从式中可以看到,电容电流 I c I_c Ic超前外加电压 U U U的相位90°。这是一种非消耗性的电流。image.png

当极板间嵌入相对介电常数 ϵ r \epsilon_r ϵr的理想电介质的情况

C = ϵ r C 0 C=\epsilon_rC_0 C=ϵrC0代入可得:
I ′ = d Q d t = d ( ϵ r C 0 U ) d t = ϵ r ⋅ i ω C 0 U = ϵ r I c = i ω C U I'=\frac{\mathrm{d}Q}{\mathrm{d}t}=\frac{\mathrm{d}(\epsilon_rC_0U)}{\mathrm{d}t}=\epsilon_r\cdot i\omega C_0U=\epsilon_rI_c=i\omega CU I=dtdQ=dtd(ϵrC0U)=ϵrC0U=ϵrIc=CU
嵌入电介质后的电流 I ′ I' I的相位仍超前于电压 U U U的相位90°。此时仍可将这一过程看作是未消耗能量的情况。

实际电介质材料情况

  • 实际材料的非理想因素:存在漏电等能量损耗因素。
  • 将实际的电介质嵌入平板电容器,并施加交变电压 U U U,此时电容电流与电压的相位差不再是90°
  • 电导分量 G U GU GU
    实际电介质充电时,除了存在电容电流 I c I_c Ic以外,还存在源于电荷运动的、与电压同相位的电导分量 G U GU GU

image.png
G G G为电导,即 G = 1 R = 1 ρ d S = σ S d G=\frac{1}{R}=\frac{1}{\rho\frac{d}{S}}=\sigma\frac{S}{d} G=R1=ρSd1=σdS。根据欧姆定律,电导分量 G U GU GU实际就是导电电流

导电电流 G U GU GU产生的原因

实际电介质充电存在充电电流 I c I_c Ic和导电电流 G U GU GU。导电电流主要由弱导电性引起的漏电电流 I d c I_{\mathrm{dc}} Idc【漏电】和弱束缚电荷在弛豫极化时引起的极化电流 I a c I_{\mathrm{ac}} Iac【弛豫极化】组成。因此电导分量 G U GU GU是弱导电性引起的漏电电流 I d c I_{\mathrm{dc}} Idc和弱束缚电荷在弛豫极化时引起的极化电流 I a c I_{\mathrm{ac}} Iac矢量和

实际电介质充电时的总电流 I I I

在这里插入图片描述

σ ∗ = i ω ϵ 0 ϵ r + σ = i ω ϵ + σ \sigma^*=i\omega\epsilon_0\epsilon_r+\sigma=i\omega\epsilon+\sigma σ=ϵ0ϵr+σ=ϵ+σ复电导率。总电流可写为:
I = σ ∗ S d U I=\sigma^*\frac{S}{d}U I=σdSU

实际电介质充电时的总电流密度 J J J

I = σ ∗ S d U ⇒ J = σ ∗ E I=\sigma^*\frac{S}{d}U\Rightarrow J=\sigma^*E I=σdSUJ=σE

实际电介质充电、损耗和总电流的矢量关系

image.png

复介电常数

image.png

真实的电介质平板电容器的总电流

I = I c + I t = I c + ( I d c + I a c ) I=I_c+I_t=I_c+(I_{\mathrm{dc}}+I_{\mathrm{ac}}) I=Ic+It=Ic+(Idc+Iac)

  • I c I_c Ic:充电时造成的电流
  • I a c I_{\mathrm{ac}} Iac:真实电介质极化时的极化电流
  • I d c I_{\mathrm{dc}} Idc:真实电介质漏电电流

与位相呈90°的 I c I_c Ic不存在能量消耗。
由于 I d c I_{\mathrm{dc}} Idc I a c I_{\mathrm{ac}} Iac的存在,总电流 I I I超前电压 U U U的相位为 ( 90 ° − δ ) (90°-\delta) (90°δ),其中 δ \delta δ介质损耗角

复介电常数的定义

ϵ ∗ = ϵ ′ − i ϵ ′ ′ ϵ r ∗ = ϵ r ′ − i ϵ r ′ ′ \epsilon^*=\epsilon'-i\epsilon''\\ \epsilon_r^*=\epsilon_r'-i\epsilon_r'' ϵ=ϵiϵ′′ϵr=ϵriϵr′′
式中, ϵ ′ \epsilon' ϵ为实数部分,表示无能量损耗。 ϵ ′ ′ \epsilon'' ϵ′′为虚数部分,对应能量损耗部分。

总电流 I I I的复介电常数形式表示

在这里插入图片描述

  • 第一项( i ω ϵ r ′ C 0 U i\omega\epsilon_r'C_0U ϵrC0U):电容充放电过程,无能量损耗。用相对介电常数的实数部分 ϵ r ′ \epsilon_r' ϵr描述。
  • 第二项( ω ϵ r ′ ′ C 0 U \omega \epsilon_r''C_0U ωϵr′′C0U):与电压同相位,对应能量损耗的部分。用相对介电常数的虚数部分 ϵ r ′ ′ \epsilon_r'' ϵr′′描述。 ϵ r ′ ′ \epsilon_r'' ϵr′′称为相对损耗因子 ϵ ′ ′ = ϵ 0 ϵ r ′ ′ \epsilon''=\epsilon_0\epsilon_r'' ϵ′′=ϵ0ϵr′′称为介质损耗因子

介质损耗

基本概念

电介质在电场作用下,在单位时间内,由于介质导电和介质极化的滞后效应而消耗掉的能量,称为介质损耗(或称为介电损耗)。
image.png

损耗角正切

tan ⁡ δ = 损耗项 电容项 = ϵ ′ ′ ϵ ′ = ϵ r ′ ′ ϵ r ′ \tan\delta=\frac{损耗项}{电容项}=\frac{\epsilon''}{\epsilon'}=\frac{\epsilon_r''}{\epsilon_r'} tanδ=电容项损耗项=ϵϵ′′=ϵrϵr′′
损耗角正切是一个无量纲量,是每个周期内介质损耗的能量与其存储能量之比。表示存储电荷所要消耗的能量大小 tan ⁡ δ \tan\delta tanδ的值越小,表明介质材料中单位时间内损失的能量越小,即介质损耗越小。
综上可得,介质损耗由 ϵ ′ ′ \epsilon'' ϵ′′引起,电容电流由 ϵ ′ \epsilon' ϵ引起 ϵ ′ \epsilon' ϵ就相当于所测得的介电常数 ϵ \epsilon ϵ

损耗角正切的电导分量表示

I = I c + G U = i ω C U + G U ⇒ tan ⁡ δ = G U ω C U = σ ( S d ) U ω ϵ ( S d ) U = σ ω ϵ I=I_c+GU=i\omega CU+GU\\ \Rightarrow \tan\delta=\frac{GU}{\omega CU}=\frac{\sigma(\frac{S}{d})U}{\omega \epsilon(\frac{S}{d})U}=\frac{\sigma}{\omega \epsilon} I=Ic+GU=CU+GUtanδ=ωCUGU=ωϵ(dS)Uσ(dS)U=ωϵσ

损耗角正切的物理属性

tan ⁡ δ \tan\delta tanδ是一个与频率、温度、材料原子尺度结构等有关的复杂函数,表示存储电荷要消耗的能量大小

品质因数 Q Q Q

品质因数用来反映电容的充放电效率,是损耗角正切的倒数:
Q = ( tan ⁡ δ ) − 1 Q=(\tan\delta)^{-1} Q=(tanδ)1

  • 高频绝缘条件下, Q Q Q越高越好。

介质损耗的形式

电导损耗(漏电损耗)

弱联系带电粒子在电场中运动。

极化损耗

弱束缚电荷极化引起的能量损耗。

电离损耗(游离损耗)

含有气孔的固体电介质,当外加电场强度超过气孔气体电离所需的电场强度时,由于气体电离吸收能量而引起的损耗。

结构损耗

在高频电场和低温条件下,与介质内部结构的紧密度密切相关的介质损耗。若某些因素造成内部结构松散,则结构损耗会增加。

宏观结构不均匀的介质损耗

实际材料内部中存在不均匀相(如晶相、气相、玻璃相等),各相的介电性质不同,引起介质的电场分布不均匀。局部较高的电场强度,则引起较高的损耗。

介质弛豫

交变电场下的电介质极化存在频率响应的原因

只有电子位移极化可认为是瞬时立即完成的,其他极化都需要时间。因此在交变电场下,电介质的极化存在频率响应的问题。即电介质在交变电场作用下的极化会受到交变电场频率的影响。

弛豫时间

不同的微观机制对频率的响应不同,在交变电场下,电介质通常发生弛豫现象。一般把电介质完成极化所需要的时间称为弛豫时间 τ \tau τ

弛豫极化强度

image.png
当在一个电介质样品上施加电场时,电介质瞬间产生一个极化强度 P 0 P_0 P0 P 0 P_0 P0与时间无关。随着时间的延长,极化强度 P P P还会继续增大,这个与时间有关的极化强度 P r ( t ) P_r(t) Pr(t)称为弛豫极化强度 P r ( t ) P_r(t) Pr(t)随着时间的延长而逐渐增大,最终达到稳定值 P r ∞ P_{r\infty} Pr,此时极化达到平衡。

极化强度 P P P

P = P 0 + P r ( t ) P=P_0+P_r(t) P=P0+Pr(t)

  • P 0 : 瞬时极化强度 P_0:瞬时极化强度 P0:瞬时极化强度
  • P r ( t ) : 弛豫极化强度 P_r(t):弛豫极化强度 Pr(t):弛豫极化强度

当时间足够长时,弛豫极化达到平衡,此时的极化强度为: lim ⁡ t → ∞ P = P ∞ \lim_{t\rightarrow \infty}{P}=P_{\infty} limtP=P

德拜方程

在交变电场作用下,电介质的介电常数电场频率 ω \omega ω弛豫时间 τ \tau τ有关,可用德拜方程进行描述(分别包括复介电常数复介电常数的实数部分复介电常数的虚数部分损耗角正切):
{ ϵ r ∗ = ϵ r ∞ + ϵ r s − ϵ r ∞ 1 + i ω τ ϵ r ′ = ϵ r ∞ + ϵ r s − ϵ r ∞ 1 + ω 2 τ 2 ϵ r ′ ′ = ( ϵ r s − ϵ r ∞ ) ω τ 1 + ω 2 τ 2 tan ⁡ δ = ( ϵ r s − ϵ r ∞ ) ω τ ϵ r s + ϵ r ∞ ω 2 τ 2 \left\{ \begin{aligned} \epsilon_r^*=\epsilon_{r\infty}+\frac{\epsilon_{rs}-\epsilon_{r\infty}}{1+i\omega\tau}\\ \epsilon_r'=\epsilon_{r\infty}+\frac{\epsilon_{rs}-\epsilon_{r\infty}}{1+\omega^2\tau^2}\\ \epsilon_r''=(\epsilon_{rs}-\epsilon_{r\infty})\frac{\omega\tau}{1+\omega^2\tau^2}\\ \tan \delta=\frac{(\epsilon_{rs}-\epsilon_{r\infty})\omega\tau}{\epsilon_{rs}+\epsilon_{r\infty}\omega^2\tau^2} \end{aligned} \right. ϵr=ϵr+1+τϵrsϵrϵr=ϵr+1+ω2τ2ϵrsϵrϵr′′=(ϵrsϵr)1+ω2τ2ωτtanδ=ϵrs+ϵrω2τ2(ϵrsϵr)ωτ
式中:
ω : 电场频率 τ : 弛豫时间 ϵ r s : 静态或低频下的相对介电常数 ϵ r ∞ : 光频或超高频下的相对介电常数 \omega:电场频率\\ \tau:弛豫时间\\ \epsilon_{rs}:静态或低频下的相对介电常数\\ \epsilon_{r\infty}:光频或超高频下的相对介电常数 ω:电场频率τ:弛豫时间ϵrs:静态或低频下的相对介电常数ϵr:光频或超高频下的相对介电常数
*对于某一电介质来说,在低频或超高频下, ϵ r s \epsilon_{rs} ϵrs ϵ r ∞ \epsilon_{r\infty} ϵr都是常数。因此影响介电性能参数性能的关键便是 ω \omega ω τ \tau τ。但要注意,弛豫时间 τ \tau τ实际是由温度来决定的,温度越高,极化越容易进行,因此弛豫时间越短。因此温度是通过影响弛豫时间 τ \tau τ从而影响介电常数的。因此实际分析中往往直接分析温度频率对电介质极化的影响。

介质损耗的影响因素分析(结合德拜方程)

频率的影响

image.png

  1. ω \omega ω很小时,也就是 ω → 0 \omega \rightarrow 0 ω0时,各种极化机制均跟得上电场的变化,不存在极化损耗。对 tan ⁡ δ \tan\delta tanδ来说,根据 tan ⁡ δ = σ ω ϵ \tan\delta=\frac{\sigma}{\omega\epsilon} tanδ=ωϵσ的关系,可知 tan ⁡ δ → ∞ \tan\delta\rightarrow\infty tanδ。介质损耗主要由电介质的漏电引起,与频率无关。此时 ϵ r ∗ = ϵ r ′ = ϵ r s    ,    ϵ r ′ ′ = 0    ,    tan ⁡ δ → ∞ \epsilon_r^*=\epsilon_r'=\epsilon_{rs}\;,\;\epsilon_r''=0\;,\;\tan\delta\rightarrow \infty ϵr=ϵr=ϵrs,ϵr′′=0,tanδ
  2. ω \omega ω增加到某一值时,弛豫极化跟不上电场变化,随着 ω \omega ω增加, ϵ r \epsilon_r ϵr减小。在这一频率范围内,由于 ω τ < < 1 \omega\tau<<1 ωτ<<1,此时 tan ⁡ δ \tan\delta tanδ随着 ω \omega ω的增大而增加
  3. ω \omega ω很高时,弛豫极化完全跟不上电场频率的变化, ϵ r → ϵ r ∞ \epsilon_r\rightarrow \epsilon_{r\infty} ϵrϵr ϵ r \epsilon_r ϵr趋向最小值。当 ω τ > > 1 \omega\tau>>1 ωτ>>1时, tan ⁡ δ \tan\delta tanδ减小 ω → ∞ \omega\rightarrow \infty ω tan ⁡ δ → 0 \tan\delta\rightarrow0 tanδ0
  4. ω τ = 1 \omega\tau=1 ωτ=1时, tan ⁡ δ \tan\delta tanδ具有最大值,对应的极值点频率 ω m \omega_m ωm满足: ω m = 1 τ ϵ r s ϵ r ∞ \omega_m=\frac{1}{\tau}\sqrt{\frac{\epsilon_{rs}}{\epsilon_{r\infty}}} ωm=τ1ϵrϵrs
不同极化机制由于 τ \tau τ不同,在不同 ω \omega ω下,各种极化机制对频率的相应不同

image.png
从图中可见,
在极高频率下,弛豫时间长的极化机制来不及响应,对总的极化强度没有贡献,只有电子位移极化起到作用。
原子或离子极化机制所引起的极化,通常在 1 0 12 − 1 0 13 10^{12}-10^{13} 10121013Hz,即红外光频段出现。
之后在 1 0 2 − 1 0 11 10^2-10^{11} 1021011Hz频段内,频率从高到低分别对应着弛豫极化偶极子取向极化等极化机制,通常室温下对于陶瓷或玻璃材料偶极子取向极化****是最重要的极化机制空间电荷极化只发生在低频下。

温度的影响

温度对弛豫极化的影响是通过影响弛豫时间 τ \tau τ来实现的。随着温度的升高,离子移动更为容易,弛豫极化更容易发生弛豫时间 τ \tau τ降低
image.png

  1. 温度很低时, τ \tau τ较大,此时 ω 2 τ 2 > > 1 \omega^2\tau^2>>1 ω2τ2>>1 tan ⁡ δ ∝ 1 ω τ \tan\delta\propto \frac{1}{\omega\tau} tanδωτ1 ϵ r ′ ∝ 1 ω 2 τ 2 \epsilon_r'\propto \frac{1}{\omega^2\tau^2} ϵrω2τ21温度升高, τ \tau τ减小, ϵ r ′ \epsilon_r' ϵr tan ⁡ δ \tan\delta tanδ都增加
  2. 温度较高时, τ \tau τ较小,此时 ω 2 τ 2 < < 1 \omega^2\tau^2<<1 ω2τ2<<1温度升高, τ \tau τ减小,则 tan ⁡ δ \tan\delta tanδ减小,并在 T m T_m Tm处存在极大值
  3. 温度很高时,离子振动很大,离子迁移受热振动阻碍增大,极化减弱 ϵ r ′ \epsilon_r' ϵr减小。由于电导急剧上升,故 tan ⁡ δ \tan\delta tanδ再次增大

介电强度

介质击穿

当电场强度超过某一临界值时,介质由介电状态变为导电状态。这种现象称为介电强度的破坏,或叫做介质的击穿

介电强度

介质击穿时,相应的临界电场强度称为介电强度,即一种介电材料在不发生击穿或者放电的情况下承受的最大电场:
E max ⁡ = ( U d ) max ⁡ E_{\max}=(\frac{U}{d})_{\max} Emax=(dU)max
可以发现,所谓的介电强度是单位厚度下所能够承受的电压值,是电场强度的最大值
物质的介电强度越大,作为绝缘体的质量越好。

介电强度的影响因素

  1. 介电强度依赖于材料的厚度 d d d厚度减小,介电强度增加
  2. 介电强度还与环境温度和气氛、电极形状、材料表面状态、电场频率和波形、材料成分和孔隙、晶体各向异性,非晶态结构等因素有关。

常见电介质的介电强度

一般情况下,凝聚态绝缘体的击穿电场范围约为 1 × 1 0 5 − 5 × 1 0 6    V / c m 1\times 10^5 - 5\times 10^6\;\mathrm{V/cm} 1×1055×106V/cm
image.png
有机高分子材料(如环氧树脂、聚苯乙烯、硅橡胶等),都具有较高的介电强度,因此这些材料常作为绝缘保护层使用。能够在高电场强度下使用。

电介质击穿的机制

热击穿

处于电场中的介质,由于其中的介质损耗而产生热量,即电势能转换为热量。当外加电压足够高时,就可能从散热与发热的热平衡状态转入不平衡状态。若发出的热量比散去的多,介质温度将越来越高,直至出现永久性损坏,发生热击穿。

电击穿

固体介质在强电场的作用下,内部少量可自由移动的载流子剧烈运动,与晶格上的原子发生碰撞使其电离,并迅速发生连锁反应产生大量的自由电子,而导致击穿。这个过程往往是瞬间完成的。

化学击穿

绝缘材料长期运行在高温、高电压、潮湿或腐蚀性气体环境下引起的,主要有热化学击穿电化学击穿两种形式。
一方面,在交变电场下,有时材料中会发生电还原作用,使材料的电导损耗急剧上升,最后由于强烈的发热而成为热击穿;另一方面,若电介质中存在封闭气孔,气体在高压电场的作用下发生电离放电并放出热量,产生的热量可能引起金属氧化物的金属离子还原成金属原子,使电导大大增加,电导的增加反过来又加速电介质的强烈发热,从而发生电化学击穿

影响电介质击穿强度的因素

介质的不均匀性

电介质为不均匀介质,有晶相、玻璃相和气孔存在,这使电介质的击穿性质与均匀材料不同。
以双层介质为例:
image.png
双层介质各层内的电场强度为:
{ E 1 = σ 2 ( d 1 + d 2 ) σ 1 d 2 + σ 2 d 1 × E E 2 = σ 1 ( d 1 + d 2 ) σ 1 d 2 + σ 2 d 1 × E \left\{ \begin{aligned} E_1=\frac{\sigma_2(d_1+d_2)}{\sigma_1d_2+\sigma_2d_1}\times E\\ E_2=\frac{\sigma_1(d_1+d_2)}{\sigma_1d_2+\sigma_2d_1}\times E \end{aligned} \right. E1=σ1d2+σ2d1σ2(d1+d2)×EE2=σ1d2+σ2d1σ1(d1+d2)×E
两层电介质电场强度的差异主要体现在电导率 σ \sigma σ上。电导率小的介质承受场强高电导率大的介质承受场强低。如果 σ 1 \sigma_1 σ1 σ 2 \sigma_2 σ2相差甚大,则必然使其中一层的场强远大于平均电场强度,从而导致这一层可能优先击穿,而后一层也将击穿。这表明材料组织结构的不均匀性可能引起击穿强度的下降

材料中气泡的作用

材料中含有气泡时,气泡的介电常数和电导率很小,因此,加上电压后气泡上的电场较高。而气泡本身的介电强度比固体介质要低得多(一般空气的 E max ⁡ ≈ 33    k V / c m E_{\max}\approx 33\;\mathrm{kV/cm} Emax33kV/cm,陶瓷的 E max ⁡ ≈ 80    k V / c m E_{\max}\approx80\;\mathrm{kV/cm} Emax80kV/cm)。所以首先气泡击穿,引起气体放电或电离,产生大量的热,容易引起整个介质的击穿。由于在产生热量的同时,形成相当高的内应力,材料也容易丧失机械强度而被破坏,将这种击穿称为电-机械-热击穿

材料表面状态及边缘电场

固体介质的表面放电

属于气体放电。固体介质常处于周围气体媒质中,击穿时常发现介质本身并未击穿,但有火花掠过其表面,即发生表面放电。这是由于:
① 电介质由于介电常数大、表面吸潮等原因,引起空间电荷极化,使表面电场畸变,降低表面击穿电压;
② 电介质与电极接触不好,引起表面击穿电压降低;
③ 电场频率升高,引起击穿电压降低。

边缘电场

电极边缘常发生电场畸变,使边缘局部电场强度升高,导致击穿电压的下降

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SpringCloud------Eureka,Ribbon,Nacos

认识微服务 微服务技术栈 微服务概念 微服务结构 微服务技术对比 企业需求 SpringCloud 认识Springcloud 服务拆分及远程调用 每个服务只能查询自己数据库中的表&#xff0c;导致其他服务如果想使用别人的表数据&#xff0c;这就需要进行远程调用&#xff0c;这里使用RestTem…

资料如何打印更省钱

在日常工作和学习中&#xff0c;我们经常需要打印各种资料。然而&#xff0c;随着打印成本的不断提高&#xff0c;如何更省钱地打印资料成为了大家关注的焦点。今天&#xff0c;就为大家分享一些资料打印的省钱技巧&#xff0c;并推荐一个省钱又省心的打印平台。 首先&#xff…

【Qt】常用控件(一)

文章目录 一、核心属性1、enabled代码示例: 通过按钮2 切换按钮1 的禁用状态 2、geometry代码示例: 控制按钮的位置代码示例&#xff1a;window frame 的影响代码示例: 感受 geometry 和 frameGeometry 的区别 3、windowTitle4、windowIcon代码示例: 通过 qrc 管理图片作为图标…

windows安装DrawDB

下载 新建一个目录drawdb,使用git下载&#xff0c;如果没有安装git的话&#xff0c;进入git官网进行下载windows版本 https://git-scm.com/downloads。 空白地方鼠标右键&#xff0c;打开git终端 执行命令&#xff1a; git clone https://github.com/drawdb-io/drawdb 安装依…

服务攻防——数据库安全

第一步: 端口扫描&#xff1a;nmap 扫不到端口&#xff1a;端口被修改&#xff0c;防护软件&#xff0c;放在内网环境 mysql 内置端口3306 第一种官方漏洞 第一步:先扫描有什么端口开发 用这个错误密码一直访问&#xff0c;最终就进去了 弱口令猜解 不可以直接猜解&#x…

STM32(开篇总结)

STM32介绍 STM32是意法半导体公司基于ARM Cortex-M内核开发的32位微控制器 STM32常应用在嵌入式领域&#xff0c;如智能车、无人机、机器人、无线通信、物联网、工业控制、娱乐电子产品等 STM32功能强大、性能优异片上资源丰富、功耗低&#xff0c;是一款经典的嵌入式微控制器…

PSRAM是什么?

1.PSRAM是什么&#xff1f; PSRAM&#xff0c;全称 伪静态随机存储器&#xff0c;它是采用动态随机存储器的工艺和技术&#xff0c;实现类似于静 态随机存储器一样的存储器件。静态随机存储器采用6T架构&#xff0c;而动态随机存储器采用1T&#xff08;晶体管&#xff09;1C&a…