硼在元素周期表里面是五号元素，是IIIA族中唯一 一个非金属元素。它是制造P型半导体的主要掺杂剂，基材中硼的含量直接影响半导体的极限电压，因此要严格控制基材中硼的含量。在半导体制造的过程中，水、气、化直接跟产品接触，且绝大部分的工艺都跟超纯水有关系，因此超纯水的品质尤为重要。如果超纯水中硼含量得不到有效控制，基材里的硼含量就没办法控制。
硼在浓度比较低的时候，在水里主要是以硼酸或者是硼酸根的形式存在，两者的比例随pH值变化而变化，当PH值超过11的时候，主要是以硼酸根形式存在；如果PH值小于7，主要以硼酸形式存在。硼酸的电离常数只有5.8 x 10-10，极不容易电离。因此，硼酸是弱酸，酸性非常弱。在常规的水处理流程中，硼酸比较难去除。
超纯水中硼离子的去除涉及多种高级净化技术，包括预处理、反渗透、离子交换、蒸馏、紫外线或超滤等。一套完整的超纯水系统整合了这些工艺，通过层层过滤、离子交换、精密加药、反渗透膜处理、紫外线消毒及EDI(电去离子)和抛光离子吸附过滤等多个环节，确保最终产水的电阻率超过18.25MΩ/cm，达到超纯标准.
硼在地壳中的平均丰度为10ppm，在火成岩中，花岗岩含硼12ppm，玄武岩含硼8ppm2。在半导体制造等领域，硼的存在会严重影响设备性能和实验结果，因此需要采取措施去除超纯水中的硼离子。
芯片半导体行业对硼的要求是达到10ppt以下，目前部分工艺对于硼的拦截达不到要求， 杜笙离子交换树脂CH-99 选择性吸附硼，出水稳定无波动。
Tulsimer® CH-99 是一款高效的选择性离子交换树脂，专为去除水溶液中的硼及其盐而设计。它具有广泛的 pH适用范围，并在有其他离子存在的溶液中能够高效地去除硼。
Tulsimer® CH-99 通过其胺聚羟基官能团与硼酸盐紧密结合，形成非常稳定的络合物，而不与其他阴离子发 生反应。这使得硼酸盐的去除不受其他阴离子的影响，即使在有其他离子存在的溶液中也能够高效地去除 硼及其盐。 在化工工业和农业用水中，微量的硼或硼盐可能会造成严重问题。Tulsimer® CH-99 能够在较大的pH范围内 有效地去除硼及其盐，并且具有较高的处理能力。由于其出色的性能，Tulsimer® CH-99 已得到广泛客户的 认可。
二、重要参数
Tulsimer® CH-99 按照严格的生产工艺制成，是一款去除水溶液中硼及其盐的选择性离子交换树脂，可以在 较大的PH 范围内甚至有其他离子存在的溶液中有效的去除硼以及硼盐，其主要特点和优势具体体现为以下几点：
1.高选择性: CH-99树脂具有与硼生成络合物的功能基团多羟基胺，使其能够选择性地吸附硼元素，即使在低浓度环境下也能高效工作；
2.高吸附速度： CH-99树脂优化的三维空间立体网络树脂结构和功能活性基团，确保了快速的吸附动力学， 使得CH-99树脂能够快速吸附硼，提高处理效率；
3.强吸附性能：由于其具备高吸附容量和吸附速度，能够有效降低溶液中的硼浓度，适用于低浓度环境下硼元素的去除和回收；
4.经济效益显著: 由于其高效的吸附性能，可以减少操作时间和树脂的使用量，从而降低能耗及整体使用成 本，提高综合经济效益。
5.稳定性强: 虽然水中的其他离子如Na2SO4和CaCl2可能会影响硼的吸附性能，但钠和氯离子的存在对CH- 99树脂的影响较小，使CH-99树脂在多种盐类共存的环境中依然保持稳定的吸附效果，不易受其他物质 影响；
6.应用广泛：适用于饮用水处理、超纯水、海水淡化、废水除硼等多个领域；
7.环保友好：通过选择性吸附而非化学沉淀等方式处理硼，减少了化学试剂的使用，降低了二次污染的风险。
